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快速退火工藝（二）
點擊量：1437 日期：2023-11-17 編輯：硅時代
鹵素?zé)艄芡嘶穑℉alogen Lamp Annealing）是一種用燈管作為熱源的退火方式，其特點如下：
高溫：鹵素?zé)艄芡嘶鸬臏囟瓤梢赃_到1300攝氏度以上，可以快速將材料加熱到所需溫度。
非接觸性：鹵素?zé)艄芡嘶鹂梢栽诓唤佑|晶圓的情況下進行，減少了對晶圓的污染風(fēng)險。
快速加熱速率：鹵素?zé)艄芡嘶鸬募訜崴俣容^快，通?？梢栽趲酌腌妰?nèi)完成退火過程，節(jié)約了大量的時間。
均勻性：鹵素?zé)艄芡嘶鹁哂泻芎玫臏囟染鶆蛐裕梢允共牧险w均勻受熱，減少熱應(yīng)力和溫度差異帶來的效應(yīng)。
可控性：鹵素?zé)艄芡嘶鹂梢酝ㄟ^控制燈管的功率和時間來控制溫度和退火時間，可以根據(jù)需要對不同材料進行精確的退火處理。
適用性廣：鹵素?zé)艄芡嘶鹂梢赃m用于多種材料，包括金屬、陶瓷、玻璃等，廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、化工等領(lǐng)域。
環(huán)保節(jié)能：鹵素?zé)艄芡嘶疬^程中無需使用外部介質(zhì)，不會產(chǎn)生廢氣、廢水和廢渣，以及減少能源消耗。
根據(jù)不同用途可選擇不同的退火方式，考慮到成本和安全性等因素，鹵素?zé)艄艹蔀槿缃褡顬閺V泛的快速退火方式之一，鹵素?zé)艄芡嘶鹁哂锌焖?、均勻、可控的特點，可以滿足不同材料的退火需求，是一種常用的熱處理方法。
隨著集成電路的發(fā)展，人們對退火材料的性能要求越來越高,常規(guī)的熱退火方法難以滿足這搬要求。因為它難以完全消除缺陷。同時，在熱退火期間，整個晶片（包括注射層和基底）它們都必須經(jīng)過高溫處理，這增加了表面污染，特別是長時間高溫?zé)嵬嘶饘?dǎo)致明顯的雜質(zhì)再分布。為了使產(chǎn)品獲得更強的性能，人們不斷在退火爐行業(yè)發(fā)展進步。從而退火爐的功能也越來越強大。
